高纯度摘要
TMAl LO是一种用于沉积化合物半导体的铝前驱体，特别为满足超低氧需求而合成。
产品名称
TMAl瞧化学家庭
高纯度摘要CAS号码
75-24-1身体形态
液体化学名称
三甲基铝分子量
72.1应用程序
对于非常氧敏感的应用，我们有一个独特的等级，以满足您的苛刻的应用。我们的特级TMAL LO的氧气规格低于1ppm。TMAL LO是许多客户的首选级应用，如激光二极管，传感器(VCSEL)，集中光伏电池(CPV)，功率半导体器件(GaN on Si)和磷化LED。我们的三甲基铝是用不锈钢制成的，内部电镀抛光。气缸配有手动或气动隔膜阀。阀门配有金属垫圈vcr连接。
市场部门
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