高纯度金属有机体
TMAl IC是一种用于原子层沉积(ALD)工艺的铝前体。
产品名称
TMAL IC.化学家庭
高纯度金属有机体化学文摘号
75-24.1.身体形态
液体化学名称
三甲基铝分子量
72.1应用程序
对于硅半导体应用中的原子层沉积（ALD），我们提供了我们的TMAL IC等级。该等级提供PPB水平的痕量金属规格。我们的三甲基铝供应在由不锈钢制成的罐（圆柱体）中提供，具有电抛光内饰。气缸配有手动或气动隔膜阀。阀门配有金属垫圈VCR连接。
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